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反滲透膜常用的清洗方法及藥劑配方
來源：m.northfacecoats.cc 發布時間：2021年09月24日
在正常運行一段時間后，反滲透膜元個會受到在給水中可能存在的懸浮物質或難溶物質的污染，這些污染物中常見的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機或生物沉積物。污染物的性質及污染速度與給水條件有關，污染是慢慢發展的，如果不早期采取措施，污染將會在相對短的時間內損壞膜元件的性能。定期檢測系統整體性能是確認膜元件發生污染的一個好方法，不同的污染物會對膜元件性能造成不同程度的損害。表中列出了常見污染物對膜性能的影響。污染物的去除可通過湖南ro反滲透膜藥劑沖洗來實現，有時亦可通過改變運行條件來實現，作為一般的原則，當下列情形之一發生時應進行清洗。
1、在正常壓力下如出水流量降至正常值的10～15%；
2、為了維持正常的出水流量，經溫度校正后的給水壓力增加了10～15%；
3、出水水質降低10～15%。鹽透過率增加10～15%；
4、使用壓力增加 10～15%；
常見污染物及其去除方法
1、碳酸鈣垢
在阻垢劑添加系統出現故障或加酸系統出現故障而導致給水 pH 升高，那么碳酸鈣就有可能沉積出來。應盡早發現碳酸鈣垢沉淀的發生，以防止生長的晶體對膜表面產生損傷，如早期發現碳酸鈣垢，可以用降低給水 pH 至 3.0 ～ 5.0 之間運行 1 ～ 2 小時的方法去除。對沉淀時間更長的碳酸鈣垢，則應采用檸檬酸清洗液進行循環清洗或通宵浸泡。
2、硫酸鈣垢
三聚磷酸鈉溶液（參見上表中三聚磷酸鈉溶液）是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的方法。
3、金屬氧化物垢
可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物 （ 例如氫氧化鐵 ） 。
4、硅垢
對于不是與金屬化物或有機物共生的硅垢，一般只有通過專門的清洗方法才能將他們去除。
1、在正常壓力下如出水流量降至正常值的10～15%；
2、為了維持正常的出水流量，經溫度校正后的給水壓力增加了10～15%；
3、出水水質降低10～15%。鹽透過率增加10～15%；
4、使用壓力增加 10～15%；
5、RO各段間的壓差增加明顯（也許沒有儀表來監測這一跡象）；
常見污染物及其去除方法
1、碳酸鈣垢
在阻垢劑添加系統出現故障或加酸系統出現故障而導致給水 pH 升高，那么碳酸鈣就有可能沉積出來。應盡早發現碳酸鈣垢沉淀的發生，以防止生長的晶體對膜表面產生損傷，如早期發現碳酸鈣垢，可以用降低給水 pH 至 3.0 ～ 5.0 之間運行 1 ～ 2 小時的方法去除。對沉淀時間更長的碳酸鈣垢，則應采用檸檬酸清洗液進行循環清洗或通宵浸泡。
2、硫酸鈣垢
三聚磷酸鈉溶液（參見上表中三聚磷酸鈉溶液）是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的方法。
3、金屬氧化物垢
可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物 （ 例如氫氧化鐵 ） 。
4、硅垢
對于不是與金屬化物或有機物共生的硅垢，一般只有通過專門的清洗方法才能將他們去除。
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反滲透系統中常用的ro反滲透膜藥劑哪些？
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